东莞市砾石实业投资有限公司于2009-08-05在东莞市成立，是可靠从事氧化锆陶瓷轴等产品的进出口贸易的建筑用粘合剂行业产品，为了更有效、快速的服务客户，砾石实业正逐步完善销售服务网络，在全国各地紧锣密鼓的设立服务站，力争使客户与砾石实业获得突出效益。

在纯贸易业中，砾石实业凭着以“既定的方针、远大的目标、成熟的理念、出色的文化”的经营宗旨，将氧化锆陶瓷轴广销于全国各地，并出口到欧美。本公司一贯坚持薄利多销、客户至上的宗旨，不断开拓创新，以质取胜，服务周到，以誉满纯贸易业。

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靶材的主要性能要求

纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

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